イオンビーム・電子ビーム複合型精密加工分析装置

イオンビーム・電子ビーム複合型精密加工分析装置
Helios 5 UX

イオンビーム・電子ビーム複合型精密加工分析装置 TES+ULTRA55モノクロメータ搭載FE-SEMとGa集束イオンビーム加工装置 を統合したデュアルビーム精密加工装置。低加速電圧での 高分解能像観察とGaイオンビームによるナノメートル単位 でのスライス加工が可能。AutoTEMソフトウエアにより薄 片化領域を指定することで,TEM試料片の全行程(ピック アップ~マウント~薄片化仕上げまで)が全自動で可能。 高速結晶方位同定が可能なCMOS方式のEBSD検出器により 三次元のEBSDシリアルセクショニングが可能。
SEM 電子銃 モノクロメーター搭載 ショットキー放出型
加速電圧 0.35 kV - 30 kV
検出器 インレンズ SE/BSE検出器 (TLD)
インカラム SE/BSE (ICD)
インカラム BSE (MD)
Everhart-Thornley SE検出器(ETD)
二次イオン対応 インチャンバー検出器(ICE)
散乱角選択BSE検出器 (CBS/ABS)
FIB イオン源 Ga 液体金属イオン源
加速電圧 0.5 - 30 kV
最大ビーム電流 65 nA
FIB-SEM 幾何学配置 V字型 傾斜配置 (52 度)
ユーセントリックWD 4mm
GIS プラチナ, タングステン, カーボン
最大試料サイズ φ150 mm, 高さ 55mm
マイクロプローブ EasyLift
低加速イオン源 -
自動制御 TEM薄膜加工 AutoTEM 5
連続断面加工3次元構築 Auto Slice & View 5
広領域連続撮影 MAPS 3
Python制御 AutoScript 4
分析 XEDS 元素分析 -
EBSD 結晶方位分析 Oxford Symmetry S3
クライオ システム Thermo Scientific CryoMAT
大気非暴露
プラズマクリーナー

FIB比較(Helios・MI4000L・Quanta)(PDF)

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